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  • PwrSoC應(yīng)用了哪些磁性材料和元器件
    發(fā)布時(shí)間:2017-11-24 來源:本站 點(diǎn)擊數(shù):884
    隨著IT產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,便攜式電子設(shè)備越來越向著微型化和集成化的方向發(fā)展。PwrSoC正是順應(yīng)該微型化和集成化發(fā)展的產(chǎn)物,來滿足現(xiàn)代人關(guān)于電子設(shè)備攜帶方便,使用簡單的習(xí)慣。而限制PwrSoC微型化和集成化進(jìn)程的主要原因是磁性材料和磁性器件。由于磁性器件的制作與半導(dǎo)體工藝不兼容,加之其性能受到磁性材料的影響,因此以往的電源供應(yīng)系統(tǒng)要不采用分離元器件進(jìn)行系統(tǒng)連接,要不采用IC與外加磁性器件的方式進(jìn)行系統(tǒng)封裝。
      近幾年,由于LTCC(low-temperature co-fired ceramic)工藝的快速發(fā)展,使得PwrSiP(power supply in package)得到了快速發(fā)展,并已產(chǎn)生許多商業(yè)化的PwrSiP。PwrSiP是通過工藝手段將電感器等無源器件與IC芯片進(jìn)行集成的技術(shù),這項(xiàng)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)包括易于制作,電感占的體積小,適于嵌入基底以及用厚膜技術(shù)來進(jìn)行高功率轉(zhuǎn)換[1]。然而,LTCC磁芯的集成需要一個相對高的工藝溫度,與典型的CMOS工藝技術(shù)不兼容,因此,LTCC工藝并不適合實(shí)現(xiàn)PwrSoC。PwrSoC目前國內(nèi)仍處于試驗(yàn)階段,由于其效率和尺寸還不能與目前商用的轉(zhuǎn)換器相媲美,因此到商業(yè)應(yīng)用還有很大一段距離。
      在一個電源系統(tǒng)中,電感器往往占據(jù)整個系統(tǒng)很大的面積,因此,如何將電感器做小是電源系統(tǒng)小型化的重要環(huán)節(jié)。電感器的小型化受許多方面的影響,包括感值,材料,結(jié)構(gòu)等因素。為了能制成滿足需求的電感器,近幾十年實(shí)驗(yàn)人員做了大量的研究,來探究影響電感器性能與制作的因素。傳統(tǒng)的電感由于鐵氧體磁芯體積大、密度高,在電路中占據(jù)的體積和重量比較大,限制了電源系統(tǒng)小型化與輕量化的發(fā)展。而為了適應(yīng)小型化、輕量化、高精度、高頻使用的需求,人們逐漸看到了薄膜電感的潛力,并進(jìn)行薄膜電感的探究。薄膜電感將三維結(jié)構(gòu)電感推向了二維平面結(jié)構(gòu),減小了電感所占的體積和重量,同時(shí)大大提高了電感密度。
      2 PwrSoC的發(fā)展
      由于硅工藝的不斷改進(jìn),集成電路經(jīng)過了小規(guī)模集成、大規(guī)模集成到超大規(guī)模集成。隨著集成電路工藝的不斷更新,想要從有源集成的方向縮小系統(tǒng)規(guī)模已經(jīng)無法跟上現(xiàn)代社會電子設(shè)備發(fā)展的速度。尤其在電源系統(tǒng)中,由于有源器件的尺寸幾乎到達(dá)極限水平,因此,想要減少系統(tǒng)體積,只能從無法集成的感性元器件入手。采用分離器件連接電源系統(tǒng),由于器件之間會造成許多空間的冗余,因此其功率密度會比PwrSoC小許多。為了滿足商用小型化的要求,同時(shí)保證足夠大的功率密度,學(xué)者們做了很多嘗試。
      Toshiro等人[2]通過濺射CoZrNb薄膜制成磁薄膜電感,并將該電感應(yīng)用到兆赫茲的開關(guān)DC/DC轉(zhuǎn)換器,最終得到尺寸7.0mm×7.0mm×2.0mm的變換器。該變換器在頻率為5MHz時(shí)的輸出功率為1W,功率密度超過9.76W/cm3。盡管該變換器的效率只有50%,與商業(yè)應(yīng)用還有一段距離,但使用薄膜電感完成DC/DC轉(zhuǎn)換器的制作,無疑是一個好的開端。Nakazawa等人[3]在功率IC上使用集成平面電感的DC/DC變換器,該功率IC的結(jié)構(gòu)圖與原理圖如圖1所示。該功率IC的封裝尺寸為10mm×10mm×1.8mm,輸出功率約為1W,開關(guān)頻率3MHz,效率80%,功率密度為5.6W/cm3。這是對于PwrSoC的一個嘗試,該變換器在效率上與Sato等制作的DC/DC變換器有很大的改進(jìn),未來如果能實(shí)現(xiàn)更高的效率并改善工藝技術(shù),將有望實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。復(fù)旦大學(xué)的ASIC與系統(tǒng)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的研究人員[4],在0.13um CMOS工藝上成功實(shí)現(xiàn)了集成片式電感與電容的DC/DC轉(zhuǎn)換器的制作。該變換器集成了一個高Q值的電感,最終的功率轉(zhuǎn)換效率與在外部連接電感的變換器的轉(zhuǎn)換效率相近,同時(shí)工作頻率為180MHz,負(fù)載電流為170mA,輸出功率最大到720mW。盡管與商業(yè)應(yīng)用的DC/DC轉(zhuǎn)換器相比,它的性能優(yōu)勢并不顯著,但該變換器的高集成度,無疑給未來的PwrSoC的發(fā)展指明了一條道路。
      盡管將電感集成到功率IC上,可以減小芯片體積。但在體積減小的過程中,各種寄生問題也接踵而至,這些問題正是目前PwrSoC亟待解決的問題。目前,實(shí)驗(yàn)制作的PwrSoC由于工藝條件的限制,效率、開關(guān)頻率、功率等仍不能達(dá)到商用的標(biāo)準(zhǔn),但其較小的體積、較大的功率密度,讓實(shí)驗(yàn)者們看到了曙光,只要能在以上的方向有所突破,PwrSoC必將迎來自己的春天。在PwrSoC中,磁性器件的尺寸仍然占據(jù)了很大的地位,如何改善磁集成工藝,進(jìn)一步減小芯片體積,也成為大家關(guān)注的方向。同時(shí),由于目前商用IC基本采用CMOS工藝生產(chǎn),而傳統(tǒng)的CMOS工藝又無法集成磁性器件,因此如何改善工藝條件,使得能在CMOS工藝上集成電感元件,成為了很多人研究的方向。目前,已出現(xiàn)的PwrSoC芯片,受到工藝條件的影響都是在有一定妥協(xié)的基礎(chǔ)上制作出來的,如磁芯材料等。未來制作出更好性能的軟磁材料,使之能更好的與現(xiàn)有的工藝相結(jié)合,從而制作出性能更優(yōu)越的器件以致系統(tǒng),是大家共同努力的目標(biāo)。
      3 磁性器件與材料的發(fā)展
      微電感的出現(xiàn)和磁薄膜的發(fā)展可以追溯到二十世紀(jì)六七十年代,而近十年薄膜微電感才得到迅猛發(fā)展。為了縮小電源的體積,同時(shí)保證其性能,不同的研究機(jī)構(gòu)致力于在功率轉(zhuǎn)換器中集成磁性器件來完成此目標(biāo)。他們使用不同的磁性材料、工藝手段和結(jié)構(gòu)來制作微磁器件。目前電感的制作方式基本大致分為2個方向,一個是采用典型的真空低溫CMOS兼容技術(shù),另一個是使用不同的封裝或集成技術(shù)而不需要真空條件。電感的連接方式是決定功率變換器是屬于PwrSiP或者PwrSoC的主要依據(jù)。對電感的研究,主要集中在如何在較小的體積上獲得大的電感,提高電感的工作頻率,提高電感的Q值,減小電感的鐵損等。為了弄清楚影響電感性能的因素,研究者通過大量實(shí)驗(yàn)對電感結(jié)構(gòu)、磁芯材料等做了研究,并逐漸了解了這些不同因素對電感性能所起到的作用。[#page#]
      3.1 微電感結(jié)構(gòu)
      如何在兼顧感值、效率、尺寸和制作工藝的情況下,來合理的安排微電感器的線圈與磁芯是微電感設(shè)計(jì)的首要問題。對于功率電感而言,如何增大其儲能是設(shè)計(jì)電感的首選條件,磁芯則是保證在較小體積下,獲得較大電感值的必備因素。目前電感的制作大致分為2個方向:第一種是把導(dǎo)體線圈做成平面結(jié)構(gòu),而用磁芯材料將導(dǎo)體線圈包圍起來,形成閉合磁路結(jié)構(gòu)(即為磁性材料/導(dǎo)體、磁性材料結(jié)構(gòu));另一種是把磁芯材料做成平面結(jié)構(gòu),而用導(dǎo)體纏繞著磁芯材料(即為導(dǎo)體/磁性材料/導(dǎo)體結(jié)構(gòu))。螺旋線圈電感和條形電感是第一種電感形式的典型代表,而采用第二種電感形式的有螺旋管和環(huán)形線圈電感。對于微電感器而言,我們關(guān)注的主要參數(shù)是單位面積電感量要高,直流承載能力高,直流電阻要低,同時(shí)工作頻率和Q值要高。
      在系統(tǒng)小型化的要求下,Sohoo教授[5]于1979年首次提出了薄膜電感的構(gòu)想。他分析了現(xiàn)有電感器出現(xiàn)的問題,那就是磁芯電感體積較大,而集成小尺寸空心電感不能滿足系統(tǒng)對大電感量和高品質(zhì)因素的追求,且電感的使用頻率只能低于100MHz。在提出薄膜電感的同時(shí),也對電感形式進(jìn)行了簡要的闡述,他提出了2種形式,一種為螺旋管型,另一種為三明治螺旋繞線型。兩種結(jié)構(gòu)圖如圖2中所示。這兩種結(jié)構(gòu)為現(xiàn)代薄膜電感的發(fā)展打下了基礎(chǔ)。
      隨著薄膜電感的發(fā)展,螺旋線圈型電感的線圈結(jié)構(gòu)也先后出現(xiàn)了折線型、圓形螺旋型、矩形螺旋型、以及雙矩螺旋型等一系列的線圈結(jié)構(gòu)[6-7],如圖3所示。通過大量的研究,人們逐漸認(rèn)識了不同的線圈結(jié)構(gòu)對電感性能的影響。在劉保元的論文[6]中,對線圈的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了詳細(xì)的理論分析,并同實(shí)際的測試作比較,得出了結(jié)論:對折線形線圈結(jié)構(gòu)來說,由于其同層導(dǎo)線間的電流方向相反,使得互感為負(fù),因此折線形線圈結(jié)構(gòu)并不利于電感性能的改善。而圓形螺旋型與矩形螺旋型線圈結(jié)構(gòu),由于他們的互感增量遠(yuǎn)大于其自感的增量,因此在相對較小的面積上,就能獲得較大的電感量。這種電感還具有直流電阻低和Q值高等優(yōu)點(diǎn),由于導(dǎo)體完全被磁性材料所圍繞,因此對獲得所需的電感值以及減小EMI效應(yīng)很有好處。這也成為了目前市場上所用的微電感,其線圈結(jié)構(gòu)普遍為后3種的主要原因。由于圓形螺旋型線圈不易實(shí)際制作,因此大部分關(guān)于電感的研究中,主要集中在矩形螺旋型線圈結(jié)構(gòu)和雙矩形螺旋型線圈結(jié)構(gòu)。
      Kowase及其同僚[8]、Ito和Takeuchi等人[9]以及Brandon等[10],都成功制作了線圈結(jié)構(gòu)為矩形螺旋型的性能良好的微電感,并將該電感用到DC/DC轉(zhuǎn)換器中,所制作的DC/DC轉(zhuǎn)換器都具有高效率、大電流、低電壓、小體積的優(yōu)點(diǎn),這是以往實(shí)驗(yàn)中,采用其他結(jié)構(gòu)所不能同時(shí)兼顧的。矩形螺旋型線圈結(jié)構(gòu)的電感,受其結(jié)構(gòu)限制,在鍍磁芯時(shí)在磁芯中誘導(dǎo)出各向異性比較困難,這限制了該結(jié)構(gòu)電感大多只能用于開關(guān)頻率小于10MHz的DC/DC變換器中。對于雙矩螺旋型線圈結(jié)構(gòu)的電感,大家也做了很多研究[7、11-13],并制造出了集成該結(jié)構(gòu)電感的DC/DC變換器。由于可以在磁芯材料中通過退火處理,產(chǎn)生單軸磁各向異性,在相同條件下,雙矩形線圈結(jié)構(gòu)電感會比矩形線圈結(jié)構(gòu)電感的電感量更大,這對于實(shí)現(xiàn)高功率PwrSoC很有幫助。采用雙矩形結(jié)構(gòu)的電感[11-12],其電感值一般在微亨量級,同時(shí)兼具較高的Q值,用其制作的DC/DC變換器[7、13]的效率都能達(dá)到80%左右,但工作頻率依然在10MHz以內(nèi)。
      為了改善矩形螺旋型線圈結(jié)構(gòu)的電感的性能,使得集成的電感能在更高頻段處工作,實(shí)驗(yàn)者們將矩形結(jié)構(gòu)進(jìn)行變換,于是產(chǎn)生跑道型結(jié)構(gòu)電感[14],如圖4所示。在圖中陰影部分為磁性材料,紅色區(qū)域?yàn)殂~導(dǎo)體。用磁性材料纏繞著線圈筆直的那部分,加上磁芯中的單軸各向異性,使得該電感能在10MHz-100MHz頻率上工作。Meere等[14]將該線圈結(jié)構(gòu)的電感應(yīng)用到DC/DC變換器中,使得該變換器能工作在較高頻段。與圓形和矩形螺旋型線圈結(jié)構(gòu)電感相比,跑道型線圈結(jié)構(gòu)電感更適合應(yīng)用到工作頻率為10MHz-100MHz,電感值為10nH-200nH的電源系統(tǒng)中。Sullivan和Sanders[15-16]在比較跑道型線圈結(jié)構(gòu)電感與螺旋管型電感的外部磁場分布時(shí)認(rèn)為,這種結(jié)構(gòu)電感由于磁路閉合,將線圈隔離,外部磁場較小,更有利于應(yīng)用到小型功率轉(zhuǎn)換系統(tǒng)中。
      同時(shí),由于不同的系統(tǒng)對電感參數(shù)的不同要求,條形電感也被研究者們所研究。所謂條形電感,是指磁性材料圍繞在單匝線圈上,如圖5所示[17]。由于該條形只用了單匝線圈,因此避免了折線形線圈結(jié)構(gòu)中匝與匝之間的影響,想要提高其感值,只能通過提高磁芯材料的磁導(dǎo)率來獲得。同時(shí)其相對于螺旋線圈電感來說較簡單的工藝流程,使得該電感比螺旋線圈電感更容易集成在硅襯底上。Sullivan等人[18]將V凹槽條形微電感集成到高電流的變換器中,最終獲得了高頻、高效率、高電流、低電壓的DC/DC轉(zhuǎn)換器。該V凹槽條形電感結(jié)構(gòu)是在硅襯底上采用濕氧腐蝕法腐蝕出一個凹槽,然后在凹槽中按順序鍍上CoZrO2/Cu/CoZrO2夾層結(jié)構(gòu)。由于V型導(dǎo)體較大的截面積,使得電感有較低的直流電阻,提高了電感的Q值,進(jìn)而改善了轉(zhuǎn)換器的效率。然而受其結(jié)構(gòu)限制,此結(jié)構(gòu)電感只能用于需要電感值較小的轉(zhuǎn)換器中。未來如果可以找到增加其電感值的方法,將可以把這種結(jié)構(gòu)的電感推向更大的發(fā)展舞臺。
      圓環(huán)型電感和螺旋管型電感,是將導(dǎo)體線圈纏繞著磁芯材料制作而成的。同前面所述的電感類型不同,這兩種電感均是將金屬圍繞成一個圈,把平面磁芯包裹起來。兩者之間的不同之處在于,前者一般為多繞組結(jié)構(gòu),后者的磁芯結(jié)構(gòu)則為條狀,如圖6所示[1]。Ahn和Allen[19]成功制作了能應(yīng)用于DC/DC變換器中的圓環(huán)型電感,該電感在5MHz時(shí)的電感值能到0.22μH。這種電感模式設(shè)計(jì)的缺點(diǎn),主要是電感的導(dǎo)體通過通孔來進(jìn)行連接的,這會產(chǎn)生一個相對較高的接觸電阻和比較復(fù)雜的工藝難度。由于不易在磁芯中誘導(dǎo)單軸的磁各向異性,電感應(yīng)用到DC/DC變換器的工作頻率只能低于10MHz。Lee等人[20]對集成的螺旋管型磁芯電感的高頻性能進(jìn)行了詳細(xì)的分析,并成功制作了電感值高于70nH,線圈電阻低于1Ω,器件面積低于1mm2的螺旋型電感。該電感的Q值大于5,電感值也是同等條件下空心電感的30倍以上,電感密度高于200nH/mm2。這種電感結(jié)構(gòu)利用在磁芯材料中誘導(dǎo)出各向異性,能使其比圓環(huán)型電感工作在更高的頻率上。在將這種結(jié)構(gòu)電感應(yīng)用于DC/DC變換器時(shí),由于功率MOSFET損耗的影響,使得變換器的效率只有52%[21]。因此,為了提高變換器效率,集成該結(jié)構(gòu)電感的工藝條件仍需改進(jìn)。
      對于功率微電感來說,其結(jié)構(gòu)的選擇至關(guān)重要,這直接關(guān)系著電感的性能以及應(yīng)用該電感的變換器的性能。為了獲得大的電感量、高頻下比較小的電阻損耗、大的Q值和高的載流能力,需要嚴(yán)格選擇電感結(jié)構(gòu)。通過以往關(guān)于電感的研究可以看出,不同結(jié)構(gòu)的電感都有其各自的優(yōu)劣勢,因此根據(jù)需求避短揚(yáng)長,才能做出合適的選擇。[#page#]
      3.2 電感用磁性材料
      磁芯是磁性器件獲得高電感值的一個快速途徑,因此磁性材料的選擇對于感性器件來說也是至關(guān)重要的。為了制作能用在10MHz-100MHz甚至更高頻段上小而高效的微電感,對磁性材料的要求為:低的磁芯損耗,高的飽和磁通密度,較高的各向異性場,低的矯頑力以及高的磁導(dǎo)率。電感器對磁性材料的詳細(xì)要求如下:
      (1) 磁芯損耗:主要包括兩個方面,渦流損耗和磁滯損耗。在低頻時(shí),磁滯損耗起主要作用,隨著頻率的逐漸增加,渦流損耗逐漸增大,并占據(jù)主導(dǎo)地位。低的渦流損耗要求軟磁材料有高的電阻率和低的矯頑力。
      (2) 電阻率:渦流損耗是指由于材料的導(dǎo)電性,而流失于磁芯材料中的能量損耗,該損耗直接影響著電感器的性能。高電阻率的磁性材料將可以有效的減少材料中流失的能量,同時(shí)其具有的大的趨膚深度,會降低磁芯薄膜厚度對磁場強(qiáng)度的影響。
      (3) 矯頑力:磁性材料低的矯頑力將會減小電感器在高頻下的磁滯損耗。
      (4) 飽和磁化強(qiáng)度:高的飽和磁化強(qiáng)度可以提高起始磁導(dǎo)率,進(jìn)而加強(qiáng)電感的載流能力。
      (5) 相對磁導(dǎo)率:相對磁導(dǎo)率高的材料,可以保障其在高頻下工作穩(wěn)定,對增強(qiáng)微電感的高頻穩(wěn)定性很有幫助。
      (6) 各向異性場:高的各向異性場,將能提高微電感的工作頻率和載流能力。
    在研究電感器對磁性材料的要求的同時(shí),人們也制作了使用不同的磁性材料作磁芯的電感,并對電感的性能進(jìn)行了測試。在1998年,Sato等人[22]將納米晶Fe(Co-Fe)-Hf-O磁性材料應(yīng)用到微電感器中并與使用非晶態(tài)Co-Ta-Hf材料薄膜電感進(jìn)行比較,得出前者有更高的Q值,應(yīng)用到DC/DC變換器中會有更高的轉(zhuǎn)換效率。由于單一的軟磁材料,想要滿足制作電感的種種要求是很困難的,于是對復(fù)合軟磁材料的研究漸漸增多了起來。Varalaxmi和Kumar[23]對鎂銅鋅和鎳銅鋅鐵氧體復(fù)合材料進(jìn)行了詳細(xì)的研究,通過一定的配比制作出了起始磁導(dǎo)率高達(dá)9619的軟磁材料,若將該材料用于微電感中,對電感性能的提高很有幫助。進(jìn)一步研究中,研究者發(fā)現(xiàn),如果在線圈外,能采用磁導(dǎo)率離散遞增的磁性材料,對提高電感器的性能有很大的作用[24]。
      目前,廣泛用于電感器磁芯中的磁性材料為Co基系列和Fe基系列材料,這主要是由于他們較高的電阻率、飽和磁化強(qiáng)度以及各向異性場。為了使電感器能工作在更高的頻段,同時(shí)保證良好的性能,需要探索出性能更加優(yōu)越的軟磁材料。
      4 磁性材料與器件的集成技術(shù)
      目前集成電感常用的工藝為絲網(wǎng)印刷技術(shù)、濺射技術(shù)和電鍍技術(shù),但每種技術(shù)都有其優(yōu)缺點(diǎn)。絲網(wǎng)印刷技術(shù)一般適合沉積非金屬薄膜,它提供了相對簡單的工藝來沉積低損耗的磁芯。但由于需要高溫退火來實(shí)現(xiàn)所需的磁性能,因此該技術(shù)與典型的硅基MEMS制作工藝不兼容。
      濺射技術(shù)是目前常用的集成磁性材料和器件的技術(shù),該技術(shù)的特點(diǎn)有(1)濺射的物質(zhì)范圍廣泛,無論是金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、化合物或者混合物。只要是固體,幾乎都可以使用濺射沉積到基片,并且在進(jìn)行磁控濺射的過程中,氧化物等絕緣的材料和合金基本不發(fā)生分解和分餾。(2)濺射的薄膜不易脫落。在濺射過程中會產(chǎn)生高能原子,當(dāng)這些高能原子淀積到基板上時(shí)與基板之間進(jìn)能量交換,會釋放出較高的能量,這樣增強(qiáng)了原子與基板間的粘附力。(3)濺射的薄膜純度較高,由于濺射需要一定的真空度,因此受到其他的污染的可能性較低。(4)濺射的薄膜膜厚較易控制,同時(shí)也方便重復(fù)制作。同時(shí)濺射與低溫CMOS工藝技術(shù)兼容。但該技術(shù)也有缺點(diǎn),對于需要沉積厚膜,濺射技術(shù)將會是一個昂貴并且緩慢的過程。
      電鍍技術(shù)對于沉積厚膜來說,是一個不錯的選擇,而且工藝成本不高,與典型的IC制作過程兼容。最常采用電鍍技術(shù)沉積的薄膜是坡莫合金,這種材料有很高的磁導(dǎo)率、低的磁滯損耗和接近為零的磁致伸縮系數(shù)。通過電鍍技術(shù)與MEMS技術(shù)相結(jié)合的方式來集成磁性材料與磁性器件,是目前實(shí)現(xiàn)PwrSoC不錯的途徑,但在批量生產(chǎn)商仍然存在不足。同時(shí),電鍍技術(shù)已經(jīng)有比較完善的儀器與工藝條件,實(shí)現(xiàn)起來比較簡單。典型的集成磁性材料與器件的工藝流程如圖7所示[25]。
      由于磁性器件對工藝的嚴(yán)格要求,致使在傳統(tǒng)的半導(dǎo)體工藝線上集成微電感幾乎是不可能的事。若能通過改善工藝,使得能將電感集成到IC芯片內(nèi)或者將制作成功的電感與IC芯片進(jìn)行系統(tǒng)集成無疑為系統(tǒng)的小型化做出了一大貢獻(xiàn)。采用濺射(電鍍)工藝集成微電感,低溫CMOS (MEMS)工藝集成功IC,是目前實(shí)現(xiàn)PwrSoC的兩大實(shí)驗(yàn)途徑。目前硅基上集成微電感盡管也有效率高達(dá)93%的樣品出現(xiàn)[26],但離實(shí)際商業(yè)應(yīng)用的片式電感95%-96%的要求還有一段距離。因此,想要實(shí)現(xiàn)PwrSoC的商用化,仍需對工藝做出改進(jìn)。
      5 結(jié)語
      受老一代PwrSiP產(chǎn)品體積小而功率密度高的沖擊,新一代的PwrSoC技術(shù)必須具有這些優(yōu)點(diǎn),同時(shí)還應(yīng)做到更好,這樣才能在未來的市場中占有一席之地。磁性材料與器件的集成,對于PwrSoC產(chǎn)品來說將會是一個推進(jìn)器,也是同以往產(chǎn)品進(jìn)行區(qū)分的一個分水嶺。
      盡管目前已出現(xiàn)的PwrSoC產(chǎn)品,獲得了不錯的性能和效率,但同商業(yè)應(yīng)用以及人們的需求之間仍存在一定的差距。PwrSoC的發(fā)展所需解決的不僅僅是改善磁性器件的性能,同時(shí)還包括系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和兼容問題。兼容問題包括制作工藝之間的兼容,器件之間所產(chǎn)生影響其性能的寄生效應(yīng)和干擾,封裝和集成問題以及長期使用的可靠性問題等。而設(shè)計(jì)問題包括系統(tǒng)的協(xié)同設(shè)計(jì)與優(yōu)化,方案驗(yàn)證和CAD仿真。總之,我們需要從磁性材料,磁性器件,制作工藝等等方面入手,不斷的進(jìn)行改善,不斷的突破障礙才能讓PwrSoC產(chǎn)品從實(shí)驗(yàn)室走向市場。同時(shí)也希望通過本文的介紹,能給國內(nèi)PwrSoC的發(fā)展帶來一定的幫助。
      文章來源互聯(lián)網(wǎng),轉(zhuǎn)載請注明軟磁性材料



    衡陽市金則利特種合金股份有限公司成立于1999年,公司主營耐蝕軟磁合金,為湖南省高新技術(shù)企業(yè)。公司自成立以來,即致力于耐蝕軟磁合金的研發(fā)。公司已具備年產(chǎn)耐蝕軟磁合金8000噸的生產(chǎn)能力。

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